ファインバブル技術を活用した洗浄技術開発―オゾンやアルカリ系溶液とファインバブルを組み合わせた洗浄技術―
Development of Cleaning utilizing Fine Bubbles―Cleaning technology that combined fine bubbles with ozone or alkali solution―
茨城県工業技術センター 産業連携室
石川 洋明 Ishikawa Hiroaki
近年の情報通信機器の小型化により、半導体にはナノレベルの微細加工が求められている。そのため、半導体の信頼性や歩留りに影響する汚染物質の除去を目的とした半導体洗浄工程の役割は重要性を増している。しかしながら、それに伴って、洗浄回数や薬剤の使用量が増加しており、その排液処理が大きな問題となっている。そこで、これらの課題を解決するため、ファインバブルの洗浄力を活用した、薬剤を使用しない、もしくは微量に抑えた洗浄技術の確立を目指して本研究開発を行った。