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日時: |
平成21年(2009年) 12月 4日(金) 13:00〜17:00 |
会場: |
シャープ梶@市ヶ谷ビル8F 「エルムホール」
- 東京都新宿区市ヶ谷八幡町8
- (JR、地下鉄:市ヶ谷駅下車 約100m)
- ☆☆ 連絡先:日本産業洗浄協議会 事務局 ☆☆
- TEL:03(3453)8165
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プログラム: |
司会
梅木義彦(潟Gー・エス・ケー)、斎田武彰(新オオツカ梶j |
13:00〜17:00 |
ご挨拶
日本産業洗浄協議会 洗浄技術委員会委員長 梅木義彦 |
13:00〜13:05 |
1.「ディスク型遠心分離機による水系・アルカリ系洗浄液のリサイクル」
アルファ・ラバル梶@プロセス機器事業本部 分離技術試験室 課長
青木 裕 氏
ディスク型遠心分離機は、1uの据付面積で10,000uという敷地で重力沈降させたと同じ効果が得られ、重力の10,000倍という遠心力によりエマルジョン相もオイルと水に分けられ、1ミクロン以下の微粒子も除去できる。水系・アルカリ系洗浄液のリサイクルに応用した事例と実用されている洗浄液用遠心分離システムを紹介する。 |
13:05〜14:20 |
2.「IPA置換乾燥に代わるフッ素系溶剤を用いた高精度水切り・乾燥システム」
潟Gー・エス・ケー 営業技術部 リーダー
木山 晴之 氏
地球環境負荷の少ない代表的な各社フッ素系溶剤の特性と、精密洗浄分野での効果的な応用例の紹介、並びに、これらフッ素系溶剤による、乾燥シミのない仕上がり精度の向上と液管理の簡素化を実現した新たな水切り乾燥システムを提案する。 |
14:20〜15:35 |
休憩 |
15:35〜15:45 |
3.「次世代半導体デバイスにおける超精密洗浄技術」
ソニー梶@コンスーマープロダクツ&デバイスグループ 半導体事業本部 セミコンダクタテクノロジー開発部門 プロセス設計部 プロセスマネージャー
岩元 勇人 氏
次世代半導体デバイスに求められる洗浄技術は、単なる「ゴミの除去」だけでは無く、高度で幅広い能力が求められつつある。本講演では、「微細パターン洗浄技術」、「アッシングレスレジスト剥離技術」、「物理洗浄の有効活用」、「ウェーハベベルのケア」というテーマに対して解決策等を紹介する。 |
15:45〜17:00 |
参 加 費: |
非会員 10,000円、 会員 6,000円
- (申込み受付後請求書をお送りしますので、銀行・郵便局にお振込み下さい。)
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募集人員: |
100名(定員になり次第締め切ります) |
申し込み先: |
日本産業洗浄協議会 事務局
〒105-0014 東京都港区芝2-10-4(電巧社ビル5F)
TEL:03-3453-8165 FAX 03-3453-8167
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申し込み期限: |
平成21年(2009年)11月 30日(月) |
★ セミナー参加をご希望の方は 申込書用紙を印刷して、 日本産業洗浄協議会 事務局宛へFAX(03−3453−8167)で申込みをしてください。
(お申込み受付後、請求書と合わせて参加券をお送りします。) |
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工業用洗浄剤・洗浄装置・周辺装置・関連器材メーカーの皆さん。関連工業団体、商社、ユーザーの皆さん。そして洗浄に関心のあるすべての皆さんへ!日本産業洗浄協議会では、地球環境保護を理念とする企業・団体・個人を会員として広く募集しています。
- ◎
- JICCには、工業洗浄における装置・洗浄剤・関連設備など異業種企業が会員として参加しています。企業間のビジネスチャンスを広げる交流の場に参加できます。
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- 販売規模統計データや最先端の技術などマーケティングに役立つ資料が入手できます。
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- JICC主催の展示会、技術セミナー、関連する各種工業団体の講演会など優先的に、割安に参加できます。
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- オゾン層保護問題での途上国支援について、日本政府及び国連環境計画の活動が活発になっています。会員には、日本政府の資金及び多数国間基金によるビジネスチャンスが生まれます。
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1. 正会員: |
メーカー・洗浄に関心のある企業(入会金10万円 年会費20万円) |
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2. 賛助会員: |
商社・ユーザー他(年会費10万円) |
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3. 情報会員: |
洗浄に関心のある個人(年会費3万円) |
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4. ユーザー個人会員: |
洗浄に興味のあるユーザー個人(年会費5千円) |
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2009.10.29更新 このページの 目次
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