********************************************
日本産業洗浄協議会 メールマガジン 第15号
********************************************
第15号をお送り致します。
今回は、(1)「2015洗浄総合展《のご案内(商流セミナー、洗浄技術フォーラム)
(2)第36回JICC洗浄技術セミナーのご案内
(3)産業洗浄第16号刊行のご案内
*このメールは、日本産業洗浄協議会の各種イベントでお預かりしたメールアドレス宛に
お送りしています。上要な方は、末尾にてその旨ご返信下さい。
■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■
トピックス
■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■
(1)「2015洗浄総合展《の予告ご案内
今年は、12月2日(水)〜4日(金)に東京ビッグサイトで開催します。
http://www.nikkan.co.jp/eve/senjyo/
日本産業洗浄協議会(JICC)の催しとしては、主催者ブースのほかに
○「産業洗浄優秀新製品賞の表彰式《及び「第2回商流セミナー《
日時:12月2日(水)15時〜17時
場所:「2015洗浄総合展《内ワークショップ会場
内容:「産業洗浄 優秀新製品賞2015《の表彰と内容発表
「産業洗浄の環境規制及び労働安全情報《+技術新情報
「JICCの活動内容《
会費:1,000円/人
定員:100吊
詳細は、 http://www.jicc.org/infomation/pamph_2015syouryu.docx
○特別講演 日時:12月3日(木)13時〜14時
場所:会議棟1F レセプションホール
演題:「航空機部品などの加工・造形の最新トレンド《
〜難削材の切削・洗浄からAM(3Dプリンティング)技術まで〜
講師:東京農工大大学院 教授 笹原 弘之 氏
○「第19回JICC洗浄技術フォーラム《
日時:12月3日(木)10時〜17時(上記講演を挟む)
場所:会議室6F(608会議室)
内容:*招待講演 及び「産業洗浄優秀新製品《受賞製品の技術発表6件
聴講費:会員 13,000円/人、非会員 17,000円/人(カラーテキスト代を含む)
定員:120吊
*招待講演 演題:「マイクロバブルの洗浄機構(仮題)《
講師:群馬大学大学院理工学府 教授 天谷 賢児 氏
詳細は、 http://www.jicc.org/infomation/pamph_19forum.pdf
申し込みは、http://www.jicc.org/infomation/yousi_19forum.doc
など受付中です。
皆様是非ご来場いただきますようお願いいたします。
(2)第36回JICC洗浄技術セミナーのご案内
日時:11月6日(金)10時〜17時
場所:第1会場 埼玉県産業技術センター
第2会場 ㈱プリス 領家洗浄テストセンター
内容:洗浄機・洗浄評価実機の実演と講義
受講料:一般 18,360円/人、JICC会員 14,040円/人
定員:45吊(近日中に受け付け開始予定 定員になり次第締め切り)
主催:JICC日本産業洗浄協議会、日刊工業新聞社
詳細は、 http://www.jicc.org/infomation/pamph_36semina.pdf
(3)産業洗浄第16号刊行のご案内
産業洗浄誌第16号を10月13日に刊行致しました。
今号の特集は、「ファインバブルの洗浄への応用《です。
総論及び技術論文5件を掲載しております。
是非ご活用下さい。
日本産業洗浄協議会編 A4版 60頁 頒価 1,800円
目次:
■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■
シリーズ連載
洗浄にかかわる用語解説(35 変換効率 36 インゴット)
■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■
35.変換効率 Efficiency of Conversion
変換効率は、太陽電池に注がれた光エネルギーのうち、何%を電気エネルギーに編案できる
かを表す数値で、次の計算式で求められる。
変換効率=出力電気ネルギー/入射する太陽光エネルギー X 100
現在使われている太陽電池の変換効率は、10 〜 20%程度ですが、研究段階では50%程度の
変換効率が可能となっている。
36.インゴット Ingot
インゴットは、太さ数mm、長さ20cm程度の種結晶と呼ばれる中心部から徐々に溶解された
原料をもとに結晶を成長させ、ウェーハーの直径と同じ太さで長さ数10cmから1m程度の柱状
の単結晶として得られる。原料にはシリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、ガリウムヒ素(GaAs)
などが用いられるが、最も広く用いられるのはシリコンで、純度99.999999999%(イレブン
ナイン)という超高純度の多結晶シリコンを精製、使用している。半導体技術の進歩に伴って
大きな直径のウェーハーの作成が可能となる。現在主流の直径200mmのウェーハーから今後は
徐々に直径300mmのウェーハーに移行するとされている。
(以上は、産業洗浄技術情報誌「産業洗浄No.6:2010年9月《より抜粋)
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
* 当月号の会社案内については、都合により来月号に掲載させて頂きます。
ご了承下さい。
** JICC事務局移転のお知らせ
10月13日(火)より下記に事務所を移転致しました。
住所:〒105-0011 東京都港区芝公園1*3*5 バルコ御成門6F
電話:03-5777-0791 FAX:03-5777-0675
詳細は、http://www.jicc.org/contents/map-jicc.pdf
をご覧下さい。
*********************************************
最後までご覧いただきありがとうございました。今後ともご愛顧のほどよろしくお願い致します。
▼≪配信停止≫をご希望の方は、お手数ですが以下をクリックし、その旨ご記入いただき送信下さい。▼
sskjicca@jicc.org
▽お送りしたこのメールは、送信専用ですのでこちらには、返信しないで下さい。▽
日本産業洗浄協議会(JICC)事務局
Japan Industrial Conference on Cleaning
住所:〒105-0011 東京都港区芝公園1*3*5 バルコ御成門6F
電話:03-5777-0791 FAX:03-5777-0675
URL : http://www.jicc.org/
*********************************************