技術論文
VUV Cleaning Technology and Application
- ウシオデンキ株式会社 第一事業部 光プロセスBU 開発部 開発課 課長
- 竹添 法隆 Takezoe Noritaka
VUV 洗浄技術は、FPD製造プロセスにおけるドライ洗浄工程の1つとして重要な技術である。昨今ではこの技術の特徴を生かして、さまざまな分野への応用・展開がなされるようになってきており、デバイスの高機能化および多様化に伴って、今後さらに新たな分野・プロセスで用途が拡大していくと思われる。本稿ではVUV洗浄技術とその応用例について紹介する。
Atmosphenic Pressure Plasma Technology and its Application
- 株式会社エア・ウォター綜合開発研究所
- 嶋谷 秀輸 Shimatani Hidetugu、 澤田 康志 Sawada Yasushi
材料表面の洗浄や改質を行う新しい手法である大気圧プラズマ表面処理技術は、シンプルなプロセスでありながら非常に高い洗浄・改質能力を持つドライプロセスである。プラズマガスの種類を選定することで、洗浄、親水化、撥水化などさまざまな表面処理が可能となる。本稿では、大気圧プラズマの装置構成、洗浄・表面処理の原理、およびその応用事例について詳述する。特に基板やフィルムの表面処理に加えて、当社で新しく開発したチューブ内・外面の接着性改善、粉体の分散性向上などへの応用技術についても解説する。
Low Temperature Dry Cleaning for Metals Using Hydrogen Radicals Generated by Hot-Wire Method
- 九州工業大学 工学研究院 電気電子工学研究系 教授
- 和泉 亮 Izumi Akira
本稿では金属向けの新規ドライ洗浄技術であるホットワイヤ(HW法)について紹介し、本手法の原理および洗浄装置の詳細について解説する。HW法は加熱触媒体によって生成した水素ラジアルを用い、低温で洗浄処理可能であり、装置コストおよびプロセスコストが安価であることを特徴としている。さらに、本手法を用いた洗浄について銅とはんだへの適用例を紹介する。
Laser Cleaning Technology and Application
- 広島工業大学 工学部 機械システム工学科 教授 博士(工学)
- 日野 実 Hino Makoto
最近のレーザー発振器の進化によってレーザー加工の運用領域は著しく拡大している。洗浄分野でも、これまで一般的に行われている薬品などによる化学的あるいはメディアなどの機械的な処理に代わってレーザーを用いた洗浄・除去、いわゆる”レーザークリーンング”が適用され始めている。本稿では、環境に優しい処理として注目されているレーザークリーニングについて、その特徴ならびにマグネシウム部材への適用例を紹介する。
Dry Cleaning Technology by Supercritical Carbon Dioxide
- 東北大学大学院 工学研究科 附属超臨界溶媒工学研究センター 博士(工学)
- 宇野 育男 Uno Ikuo、佐藤 善之 Sato Yoshiyuki、猪俣 宏 Inomata Hiroshi
超臨界CO2は低界面張力かつ高拡散性を有する低環境負荷な溶剤であり、新規のドライ洗浄プロセスにおいて注目されている。本稿では、はじめに超臨界CO2洗浄技術の特徴について述べた上で、筆者らがこれまで検討してきたドライクリーニングおよびケミカルフィルターの洗浄プロセスについて紹介する。
The Dry Ice Blast Cleaning Technology and Evalutaion
- 日本液炭株式会社 技術開発本部 開発部 機器開発課
- 近藤 航 Kondo Wataru
ドライアイスブラストで洗浄を行う場合、洗浄品質とコストが両立する運転条件を見つけることが重要である。しかし実際には、さまざまな汚れに対する最適な運転条件を明確に示すものはなく、例えば、汚れやこれが付着する母材の種類などを考慮し、使用者自らが適切な運転条件を見つけ出さなければならない。本稿では、この問題を解決するためのひとつの方法として、ドライアイスブラストの運転条件と、塗料の剥離状態との関係を重回帰分析によって解析するとともに、ドライアイス粒子が洗浄対象に衝突した際に加わる圧力とその面積を、感圧紙を使って取得したデータによって可視化する方法を紹介する。