「産業洗浄」No.2

特集：エレクトロニクス産業における洗浄

• 産業洗浄の中枢を目指して 日本産業洗浄協議会 会長 片岡 啓二
特集:エレクトロニクス産業における洗浄

総論

• キヤノン株式会社 基盤技術開発本部 材料技術開発センター 分析技術研究部 分析技術第二研究室 室長 中嶋 生朗

技術論文

• 局所クリーン化洗浄技術 独立行政法人 産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門 主任研究員 原 史朗
• 次世代半導体デバイスにおける超精密洗浄技術 ソニー株式会社 半導体事業本部 セミコンダクタテクノロジー開発部門 プロセス技術部 FEOL&WET 技術担当部長 岩元 勇人
• 液晶基板の洗浄技術 芝浦メカトロニクス株式会社 技術本部 研究開発グループ 技監 廣瀬 治道
• フリップチップ実装における最新洗浄技術 荒川化学工業株式会社 機能材料事業部 企画グループ グループリーダー 前野 純一
• 電子部品の洗浄および乾燥へのフッ素系特殊溶剤バートレル ® の適用 三井・デュポン フロロケミカル株式会社 技術サービスグループ 主査 菊地 秀明

JICCトピックス

• 「産業洗浄現場におけるVOC対策事例集」の紹介 株式会社旭リサーチセンター 主幹研究員 新井 喜博
• 第12回 JICC洗浄技術フォーラム2008
• 産洗協に新しい会員制度が発足 日本産業洗浄協議会

技術情報

• 洗浄相談 Q&A
• 短期連載 産業洗浄基礎知識(2) II. 湿式による汚れ除去洗浄技術　─「汚れ除去型I」に分類される洗浄技術─ 株式会社 EME 技術顧問 冠木 公明
• 新刊案内 現場で役立つ洗浄評価法
• 広告索引
• 「産業洗浄」編集委員会
• 編集後記