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「洗浄技術2号」表紙と目次

「洗浄技術2号」表紙
  • 発行日:2008年9月1日
  • 産業洗浄の中枢を目指して
  • 日本産業洗浄協議会
  • A4版 66ページ
  • 価格 1,800円(税別)
  • 技術論文のサマリー
片岡啓二

「産業洗浄」No.2

特集:エレクトロニクス産業における洗浄

  • 産業洗浄の中枢を目指して 日本産業洗浄協議会 会長 片岡 啓二
  • 特集:エレクトロニクス産業における洗浄
    総論
  • キヤノン株式会社 基盤技術開発本部 材料技術開発センター 分析技術研究部 分析技術第二研究室 室長 中嶋 生朗
  • 技術論文
  • 局所クリーン化洗浄技術 独立行政法人 産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門 主任研究員 原 史朗
  • 次世代半導体デバイスにおける超精密洗浄技術 ソニー株式会社 半導体事業本部 セミコンダクタテクノロジー開発部門 プロセス技術部 FEOL&WET 技術担当部長 岩元 勇人
  • 液晶基板の洗浄技術 芝浦メカトロニクス株式会社 技術本部 研究開発グループ 技監 廣瀬 治道
  • フリップチップ実装における最新洗浄技術 荒川化学工業株式会社 機能材料事業部 企画グループ グループリーダー 前野 純一
  • 電子部品の洗浄および乾燥へのフッ素系特殊溶剤バートレル ® の適用 三井・デュポン フロロケミカル株式会社 技術サービスグループ 主査 菊地 秀明
  • JICCトピックス
  • 「産業洗浄現場におけるVOC対策事例集」の紹介 株式会社旭リサーチセンター 主幹研究員 新井 喜博
  • 第12回 JICC洗浄技術フォーラム2008
  • 産洗協に新しい会員制度が発足 日本産業洗浄協議会
  • 技術情報
  • 洗浄相談 Q&A
  • 短期連載 産業洗浄基礎知識(2) II. 湿式による汚れ除去洗浄技術 ─「汚れ除去型I」に分類される洗浄技術─ 株式会社 EME 技術顧問 冠木 公明
  • 新刊案内 現場で役立つ洗浄評価法
  • 広告索引
  • 「産業洗浄」編集委員会
  • 編集後記


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